無(wú)縫方矩管內(nèi)外表層(尤其如化學(xué)拋光、研磨拋光后)具備優(yōu)良鈍化處理層，抗腐蝕工作能力較強(qiáng)。內(nèi)外表層的光滑度高，物質(zhì)的黏附非常少有益于抗腐蝕。方矩管內(nèi)表層光滑度高液體物質(zhì)停留越少，有益于清洗，尤其在制藥業(yè)領(lǐng)域。

　　1、方矩管內(nèi)表層化學(xué)拋光(電電拋光)：電解法的拋光液是硫酸銨、鹽酸、鉻酐、果膠、重鉻酸鉀等。無(wú)縫方矩管內(nèi)表層在陽(yáng)極氧化上，拋光液在和內(nèi)流動(dòng)性通以低壓大電流量而開(kāi)展化學(xué)拋光解決。這時(shí)候管中表層另外開(kāi)展著2個(gè)互相分歧的全過(guò)程，即金屬表層 鈍化處理層(含稠性黏膜)形成與融解。因?yàn)楸韺油獠拷?jīng)濟(jì)的突起一部分和凹下去一部分破乳進(jìn)到鈍化處理的標(biāo)準(zhǔn)是不一樣的，又因?yàn)殛?yáng)極氧化融解。因?yàn)楸韺油獠拷?jīng)濟(jì)突起一部分和凹下去一部分破乳進(jìn)到鈍化處理的標(biāo)準(zhǔn)是不一樣的，又因?yàn)殛?yáng)極氧化融解，陽(yáng)極氧化區(qū)金屬材料含鹽量持續(xù)提升，在表層產(chǎn)生一種高電阻器的稠性黏膜。

　　2、方矩管內(nèi)表層研磨拋光：有轉(zhuǎn)動(dòng)與平行線打磨拋光。這兒以轉(zhuǎn)動(dòng)研磨拋光為例子：研磨拋光機(jī)器設(shè)備比較簡(jiǎn)單驅(qū)動(dòng)力與拋光碟、高級(jí)拋光機(jī)械比較簡(jiǎn)單，驅(qū)動(dòng)力與拋光碟、高級(jí)拋光膏。選用逐步細(xì)沙粒作的布盤(pán)與布盤(pán)在管內(nèi)外表層上往返數(shù)次多道開(kāi)展打磨拋光解決，光滑度能做到Ra≤0.2-0.4μm。研磨拋光與化學(xué)拋光相較為具備機(jī)器設(shè)備簡(jiǎn)易、科技含量低非常容易把握，花費(fèi)成本費(fèi)也低，不容易毀壞方矩管而導(dǎo)致?lián)p毀，因而普遍地運(yùn)用。但表層印化層抗腐蝕工作能力化學(xué)拋光好些的多。